duv和euv技术区别

有网友问duv和euv技术区别，今天就给大家讲解一下duv和euv技术区别。

DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。 从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。 只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。

以上就是duv和euv技术区别，希望对大家有所帮助。